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Il existe un monomère époxy cycloaliphatique (méthyl) de type acrylique dont les ventes annuelles sont inférieures à 200t, mais il a été répertorié dans la catégorie des matériaux «goulot d'étranglement» qui doivent être abordés de toute urgence dans les Directives pour la démonstration des applications en premier lot de nouveaux matériaux clés (édition 2019 et édition 2021) Par le ministère de l'Industrie et des Technologies de l'information, avec la raison qu'il est l'un des monomères les plus largement utilisés dans la chaîne mondiale de l'industrie des photorésistes ArF.
Le photorésist, également connu sous le nom de réserve photosensible, est un milieu utilisé pour le transfert de motifs par des réactions photochimiques. C'est un type de produits chimiques fins caractérisé avec des variétés assorties, des propriétés diversifiées et de larges applications. Principalement utilisé dans le traitement fin des circuits intégrés et des dispositifs semi-conducteurs discrets dans l'industrie électronique, le photorésist doit transférer les motifs fins nécessaires du masque au substrat pour être traités par exposition et développement dans le cadre de la réaction photochimique, puis subir un processus de gravure, de diffusion, d'implantation ionique et de métallisation. Par conséquent, c'est le matériau chimique de base clé dans l'industrie électronique.
Les progrès de l'industrie électronique sont étroitement liés au développement de la photorésiste. S'il n'y a pas de technologie de base de photorésist à semi-conducteur en main, l'industrie des circuits intégrés en Chine sera toujours limitée même si une percée est faite dans la machine de photogravure. À l'heure actuelle, plus de 90% parts de marché de photorésist à semi-conducteurs ont été occupées par des entreprises au Japon, en Corée et aux États-Unis, avec les principaux fabricants tels que JSR, TOK, Fuji Electronics, shin-Etsu et Sumitomo Chemical au Japon ainsi que Dow Chemical aux États-Unis. Bien que la photorésiste domestique ait été développée ces dernières années, elle ne peut viser que des percées sur les marchés haut de gamme, en particulier dans le domaine de la photorésiste Arf. Comme la plupart des processus de base de la production de matières premières sont maîtrisés par des entreprises étrangères, cet obstacle rend également difficile pour les fabricants nationaux de développer des produits de haut niveau.
Fin 2015, une entreprise étrangère bien connue de photorésistes a avancé: «Il existe sur le marché un monomère époxy cycloaliphatique de type acrylique représentant une grande proportion dans leur système de formule de photorésist, mais une seule entreprise japonaise peut fournir ce produit en vrac. Par conséquent, ils peuvent faire face au risque de manquer de stock à tout moment., et l'entreprise a invité Tetra à fournir ce type de produits en raison de l'accumulation technique dans le domaine deRésines époxy cycloaliphatiques». Face à une telle nouvelle opportunité de marché, Tetra New Materials a mis en place une équipe spéciale pour le projet photorésist (PR-001 de code de projet interne) avec le directeur général comme chef d'équipe, le directeur technique en tant que chef de projet. L'équipe du projet était composée de professionnels talentueux dans le développement de processus, l'analyse de R & D, la technologie des processus, la technologie d'ingénierie, le développement de la production et la chaîne d'approvisionnement pour s'attaquer conjointement aux problèmes des technologies clés.
Photo de groupe de l'équipe du projet
Sur la base du calendrier global de «deux ans pour la production en laboratoire, deux ans pour la production pilote et trois ans pour la production de masse», l'équipe de développement de processus a mené plus de 1000 essais en laboratoire en plus de 600 jours, résolu des problèmes de sélection des voies de processus, d'indices de matières premières et auxiliaires et d'intermédiaires, de criblage de catalyseurs, Criblage par inhibiteur, polymérisation du produit pendant le processus de distillation, jaunissement du produit, analyse du polymère et d'autres impuretés (impureté clé <0.1%; polymère non détecté est nécessaire), inhibiteur excessif, viscosité excessive (≤ 15cps) et ions métalliques excessifs (la teneur en 12 types d'ions métalliques ≤ 50ppb) Et a finalement fourni cinq lots d'échantillons de laboratoire pour les clients en 2017 et a réussi le test de laboratoire du client début 2018.
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Équipe de développement de processus explorant les paramètres de rectification | Équipe d'analyse de R & D évaluant la qualité du produit |
Après avoir réussi le test de laboratoire, les membres de l'équipe ont été grandement encouragés et ont effectué un test pilote de 100kg pour le produit. En près de deux ans, ils ont abordé divers problèmes lors du test pilote, introduit des technologies de distillation azéotropique et de séparation par membrane pour réaliser divers indicateurs techniques de test en laboratoire et ont réussi en douceur le test pilote du client en 2019. En raison de la base solide de l'étape d'essai pilote, les produits ont été produits de manière stable dans la base de Taixing dans le Jiangsu depuis 2021 et ont également passé la vérification de la ligne de production du client. En 2022, la production d'essai de ces produits a été lancée dans la base de Dongying dans le Shandong et des échantillons sont envoyés aux clients pour vérification.
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Paramètres du dispositif de débogage du personnel de production pilote | Ingénieur technique simulant des applications en aval |
La mise en œuvre de ce projet a non seulement enrichi les catégories de produits de Tetra New Materials, mais a également renforcé l'équipe de projet et accumulé de nombreuses réalisations technologiques et des connaissances. Nous avons successivement obtenu 3 brevets pour l'invention, 8 brevets pour les modèles d'utilité et appliqué avec succès pour les fonds spéciaux provinciaux/municipaux pour la commercialisation de grandes réalisations scientifiques et technologiques.
TTA153 4 méthacrylate d'époxycyclohexylméthyleEt TTA16Esters d'acrylate en grosSont les deux premiers produits dans le domaine du photorésist à semi-conducteurs investis par Tetra. Étant donné que les matériaux de résine les plus critiques dans la photorésist sont généralement synthétisés indépendamment par différents fabricants, la compétitivité de base des produits est fortement liée à l'abondance des matières premières en amont et au niveau de la technologie de synthèse. Par conséquent, la recherche des matières premières en amont est la première étape pour briser le blocage matériel des fabricants étrangers. Par rapport aux variétés similaires, TTA15 et TTA16 ont non seulement considérablement amélioré la résistance au vieillissement thermique, mais ont également offert une excellente réactivité, qui sont le complément important des propriétés clés des matériaux synthétiques et comblent également le vide dans la localisation de ce type de matières premières.
Tetra New Materials est toujours engagé dans la localisation de matériaux époxy cycloaliphatiques essentiels dans le développement de photorésist et continuera à contribuer à l'essor de l'industrie chinoise des circuits intégrés.
Tetra s'est positionné dans les matériaux époxy haut de gamme depuis sa création, visant à devenir un fournisseur de solutions parfaites avec une marque internationale de premier ordre dans la nouvelle industrie des matériaux. Après plus de 10 ans de développement, la société a réussi à briser le blocus technique des entreprises étrangères dans le domaine, réalisé la substitution localisée de divers monomères époxy cycloaliphatiques et formé une série de systèmes techniques avec des droits de propriété intellectuelle indépendants. À l'heure actuelle, la société détient plus de soixante brevets. En plus de répondre pleinement aux besoins des industries traditionnelles en aval au pays et à l'étranger, ces produits ont également été largement utilisés dans de nouveaux domaines tels que les revêtements/encres durcissables aux UV, les matériaux composites, les adhésifs, isolation électronique et électrique, matériaux d'emballage semi-conducteurs, fabrication additive d'impression 3D, etc.
La société dispose désormais d'une équipe de direction de haute qualité composée de professionnels engagés dans la R & D et les applications technologiques dans le domaine des nouveaux matériaux. Nous avons mis en place le centre de technologie d'ingénierie de résine époxy et le centre de service de technologie d'application équipé d'une chaîne de technologie complète, y compris le laboratoire pour les tests de laboratoire, le laboratoire de sécurité, le laboratoire de test d'expansion d'échelle de kilogramme, le dispositif de transformation pilote, etc. Guidée par la philosophie d'opération de «l'internationalisation, la technicalisation et la greenisation», La société a pris la gestion précise et professionnelle, l'innovation et l'entrepreneuriat comme le programme de motivation spirituelle et d'action pour le développement de l'entreprise afin d'améliorer la compétitivité de base motivée par l'organisation, la technologie, le coût et la qualité, servir le client, la concurrence et l'évolution des objectifs commerciaux et s'efforcer de créer la valeur maximale pour les clients.
Afin d'améliorer les responsabilités sociales de l'entreprise, la société a attaché une grande importance à la protection de l'environnement, en promouvant la production de nettoyage et en passant la certification du système de gestion de l'environnement ISO14001; en outre, la société a toujours adhéré à la politique de production de sécurité «La sécurité la plus élevée, la prévention d'abord, la gestion globale, Pleine participation et amélioration continue» et a passé la certification OHSASI de normalisation de la production 18001 et de sécurité.
Au cours des dernières années, la société continue de renforcer le développement de nouveaux produits et technologies et s'engage à créer une référence chinoise pour l'application de nouveaux matériaux chimiques et à guider les demandes nationales pour pousser la mise à niveau deRésines époxy spécialesIndustrie en Chine.
